镀膜技术员（PVD）

PVD镀膜工艺的基本原理

物理气相沉积的定义：物理气相沉积是一种通过物理过程将固体材料转化为气态，再沉积到基材表面形成薄膜的技术。与化学气相沉积（CVD）不同，PVD主要通过物理过程，如蒸发、溅射、弧蒸发等实现材料的转移和沉积。

基本工作机制：材料蒸发或溅射： PVD工艺的第一步是将固体材料转化为气态，这可以通过蒸发或溅射实现。在真空条件下，材料在高温或高能粒子的作用下转化为气态原子或分子。

传输和沉积过程： 气态的原子或分子在真空环境中传输，最终沉积到基材表面。这一过程需要精确控制，以确保膜层的均匀性和附着力。

镀膜技术员主要工作内容：真空镀膜机的操作，按照工艺流程加工各类零部件。

岗位职责：

1、经过公司技术培训后，操作镀膜设备,

2、上级安排的基他工作

任职要求：

1、大专及以上学历，工科专业；

2、有机械操作、设备操作经验者优先；

3、细致，诚实，正真，有责任心；

4、能适应8小时3班倒工作；

5、能够接受在无尘车间工作。

薪资待遇：底薪+生产提成，激励模式，学徒期综合月薪保底4k-5k，绩效奖金与生产效率动态挂钩。年终奖、免费工作餐、低价宿舍、团建旅游过节费等。